• Polvere di ossido di ittrio con purezza del 99,999% per rivestimento resistente al plasma di grado spray termico in camere a semiconduttore
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Polvere di ossido di ittrio con purezza del 99,999% per rivestimento resistente al plasma di grado spray termico in camere a semiconduttore

Polvere di ossido di ittrio con purezza del 99,999% per rivestimento resistente al plasma di grado spray termico in camere a semiconduttore

Dettagli:

Luogo di origine: Jiangxi, Cina
Marca: High Broad
Certificazione: ISO 9001:2015, REACH
Numero di modello: Y2O3-5N

Termini di pagamento e spedizione:

Quantità di ordine minimo: 1000kilogram
Prezzo: USD 5-100 / Kilogram
Imballaggi particolari: Sacco interno sottovuoto con sacco esterno in foglio di alluminio, confezionato in fusti di fibra da
Tempi di consegna: 5-15 giorni lavorativi dalla conferma dell'ordine
Termini di pagamento: T/T,L/C,PayPal,Western Union
Capacità di alimentazione: 500000 chilogrammi al mese
Miglior prezzo Contatto

Informazioni dettagliate

Densità: 5,01 g/cm³ superficie specifica: 8-15 mq/g
Dimensione delle particelle: 1-5 μm Punto di fusione: 2425 °C
Struttura cristallina: Cubo Purezza: 990,999% (5N)
Evidenziare:

Polvere di ossido di itrio 5N

,

Classe di rivestimento termico a spruzzo

,

Protezione della camera dei semiconduttori

Descrizione di prodotto

990,999% di ossido d'itrio Y2O3 Polvere di grado spruzzo termico per rivestimento plasmatico resistente alla camera dei semiconduttori
990,999% (5N) di ossido d'itrio (Y2O3) polvere per spruzzo termico

La nostra polvere di ossido di itrio al 99,999% (5N) è prodotta in Cina utilizzando tecnologie avanzate di estrazione e depurazione delle terre rare.Questa polvere Y2O3 di grado di spruzzo termico è specificamente progettata per il rivestimento a spruzzo termico dei componenti delle camere dei semiconduttori, offrendo una consistenza e prestazioni eccezionali in ambienti industriali di rivestimento esigenti.

99.999% Yttrium Oxide Thermal Spray Grade Powder
Caratteristiche chiave
  • Purezza ultra-alta del 99,999% (5N) per una contaminazione minima nei processi di semiconduttori sensibili
  • Distribuzione ottimizzata della dimensione delle particelle (1-5 μm D50) per una costante deposizione da spruzzo termico
  • L'eccellente resistenza al plasma all'incisione prolunga la durata di vita dei componenti della camera di 3-5 volte
  • L'elevato punto di fusione (2425°C) garantisce la stabilità del rivestimento in condizioni di ciclo termico estremo
  • Bassi livelli di impurità di Fe, Na, Ca, Si assicurano la purezza del rivestimento e l'integrità dielettrica
Specifiche tecniche
Parametro Specificità
Purezza 990,999% (5N)
Dimensione delle particelle D50 1-5 μm
Struttura cristallina Cupi
Numero CAS 1314-36-9
Apparizione Polvere bianca
Densità 50,01 g/cm3
Punto di fusione 2425 °C
Superficie specifica 8-15 m2/g
Applicazioni raccomandate

Questa polvere di ossido d'itrio è ampiamente utilizzata nel rivestimento termico a spruzzo, nella deposizione a plasma, nel trattamento delle superfici ceramiche,e altri processi industriali di rivestimento che richiedono materiali di terre rare di alta purezzaLa sua eccellente stabilità termica, la sua resistenza chimica e la sua resistenza all'incisione plasmatica la rendono ideale per i rivestimenti protettivi in ambienti operativi difficili.

Imballaggio e conservazione

Sacchetto interno sigillato sotto vuoto con strato esterno di foglio di alluminio per prevenire l'assorbimento dell'umidità. Confezionato in barili di fibre da 25 kg con essiccante. Conservato in un luogo fresco e asciutto lontano da acidi e umidità.

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Jane Hu
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